Normal view MARC view ISBD view

Estudio de inestabilidades en estructuras MOS con dieléctricos nanométricos de alto K

By: Sambuco Salomone, Lucas Ignacio.
Contributor(s): Lipovetzky, José [Co-Director] | Faigón, Adrián Néstor [Director].
Material type: materialTypeLabelBookPublisher: 2011Description: x, 215 p. : gráfs., tablas ; 30 cm.Subject(s): CARACTERIZACION | MATERIALES COMPUESTOS LAMINADOS | MATERIALES NANOESTRUCTURADOS | DIELECTRICOS | DISPOSITIVOS MOS | ALUMINA | COMPUESTOS DE HAFNIO | INESTABILIDADOther classification: T 1828 Dissertation note: Tesis de grado -- Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. UBAFI, 2011
    average rating: 0.0 (0 votes)
tw fb ig youtube

Gestión y mantenimiento Lic. Marcos Benincasa